[24p-P09-1~8] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[24p-P09-5] SiC_xN_yO_zの室温プラズマCVD成膜における前駆体間相互作用

川上 広樹¹、堀 健太¹、渡部 亨¹、〇羽深 等¹ (1.横国大院理工)

キーワード：

PECVD,SiCNO,前駆体相互作用

様々な材料に耐腐食性膜を形成するために、室温プラズマは有効な手法である。アルゴン(Ar)、窒素(N₂)とモノメチルシラン(SiH₃CH₃, MMS)による室温プラズマから得られる非晶質SiC_xN_yO_z膜は、SiN、SiCとSiO₂に起因する耐腐食性を示すことが報告されている。その膜厚と組成を制御するために、混合ガス系における成膜機構を単純なモデルで表すことができれば便利である。そこで、反応速度論に準じた多項式を用いて膜厚と組成を再現し、成膜の主要因と前駆体間相互作用について考察した。