講演情報
[24p-P12-2]エタノール蒸気を添加したNH3ガスによる低温酸化Si膜中残留OH基量の低減効果
〇堀田 將1 (1.北陸先端大)
キーワード：
酸化Si膜,低温作製,OH
堆積酸化Si膜はより低温での形成が望まれているが、膜中には多くのOH成分が残留するため、絶縁性が著しく悪い。これに対して我々は、シリコーンオイルとオゾンによりSi基板上に190oCで堆積した酸化Si膜を、以前効果があると報告しているNH3+N2ガスにエタノール蒸気を添加することで、添加無しのものに比べてより残留OH基量を低減できた。試みたアニール温度は、約130℃、全時間は60分である。