講演情報
[24p-P16-25]プラズマ合成ZnO 透明導電膜の低抵抗化に向けた二重堆積の有効性
〇藤田 黎輔1、ティホミール キュゾビック1、石田 大輝2、保坂 恭平2、佐藤 直幸1 (1.茨城大理工、2.茨城大工)
キーワード：
ZnO,透明導電膜,二重堆積
透明導電膜の代替材料として，安価な点と近赤外領域においても光吸収係数が低い点からZnOに注目し，堆積レートの高い高周波（rf）誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma：ICP）方式によるイオンプレーティング法（約1 µm/min）を用いてITOに近い低抵抗なZnO薄膜を合成している．ZnO薄膜のシート抵抗RSの低抵抗化へ向けた厚膜化を行っている中で，その手段の1つとして二重堆積（double deposition）を用いた．その結果元のRSよりも低下し，並列合成抵抗の理論傾向に近い値が得られたことから，今後透明導電膜の低抵抗化と高機能化に向けて今回の新たな堆積方法は有効的であると考えられる．