[25a-61B-1~8] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

10:00 〜 10:15

[25a-61B-4] On-Off及びHigh-Low変調VHFプラズマ照射下のキャピラリープレート底部の電荷蓄積におけるデューティー比の影響

〇赤塚 勇大¹、鈴木 陽香¹、森山 誠²、飯野 大輝²、福水 裕之²、栗原 一彰²、豊田 浩孝¹ (1.名古屋大、2.キオクシア（株）)

キーワード：

プラズマ,反応性イオンエッチング

二周波重畳容量結合型プラズマを用いた反応性イオンエッチングでは、ホールのチャージアップにより形状異常を引き起こす可能性がある。これまでにキャピラリープレート(CP)をエッチングホールのモデルとして用い、On-Off動作のVHF放電における時間依存のチャージング挙動を報告してきた。今回、Duty比を変更した際のOn-Off及びHigh-Low変調でのCP底部電荷密度計測を行ったため報告する。