講演情報
[25p-12H-7][シリコン系半導体エレクトロニクス高専活性化奨励賞（名取研二高専活性化奨励賞）] 室温ナノインプリントによるDLCマイクロ・ナノパターン形成と半導体人材育成
〇清原 修二1,2、石川 一平1,2、坂東 隆宏3、針谷 達3、滝川 浩史3、倉島 優一4 (1.舞鶴高専、2.ナノテク教育センター、3.豊橋技科大、4.産総研)
キーワード：
ナノインプリント,ダイヤモンドライクカーボン,半導体人材育成
5G スマートフォン，AI ロボット，データセン ター，電気自動車，自動運転を始めとする最先端 の技術が進むにつれて，ナノテクノロジーによっ て製造される半導体が搭載された電子デバイス の需要が年々急増している．そのため九州の高専 では，半導体人材育成のための実習が行われてい る 1)．今後，全国の高専においても半導体人材育 成が求められるが，舞鶴高専ではナノテクノロジ ー教育センター等の半導体プロセス（前工程）に 関わる設備が揃っている．そこで，本研究では， これらの設備を用いて「半導体人材育成基礎プロ グラム」を実施し，小・中学生，本校学生を対象 に半導体デバイスプロセス（前工程） ［Diamond-like Carbon マイクロ・ナノパターン 形成］の基礎知識について習得してもらうことで， 半導体エンジニアの育成を目的としている．