講演情報
[25p-12M-3]極端紫外光誘起水素ラジカルの特性とスズ汚染洗浄に対する効果
〇田中 のぞみ1、Zhu Baojun1、Liu Chang1,2、Wang Yubo1、西原 功修1,3、Hernandez James Edward1、城崎 知至1,4、砂原 淳1,5、Kang Kyung Sik6、上山 真司7、藤岡 慎介1 (1.阪大レーザー研、2.量研機構、3.大阪公立大、4.広大先進理工、5.パデュー大、6.Samsung MR、7.サムスン日本研究所)
キーワード：
極端紫外光リソグラフィ,光電離光解離プラズマ,スズ汚染除去
高強度パルス極端紫外光によって誘起される、光電離及び光解離水素プラズマ中の水素ラジカル(水素原子)の特性を調べた。水素ラジカルの絶対密度をレーザー誘起蛍光診断法により実験的に測定し、理論モデリングによって評価した。水素プラズマは準定常状態にあり、衝突輻射平衡モデルで記述できることが分かった。講演では極端紫外線リソグラフィ光源における集光鏡表面のスズ汚染洗浄に対する水素ラジカルの実用性についても議論し、最適化のための展望を示す。