講演情報
[25p-52A-5]ミニマル液体ドーパント・プロセスを用いたMOSFETのシート抵抗の面内均一化
〇中道 修平1、本郷 仁啓1、田中 宏幸2、居村 史人1,3、原 史朗1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.（株）Hundred Semiconductors)
キーワード：
ミニマルファブ,SODコート,不純物ドーピング
ミニマルファブでは、不純物拡散にはSOD材料を用いた熱拡散方法を採用している。
しかし、ボロンドープpMOSFETにおいてウェハエッジ付近ではシート抵抗バラツキが大きくなる結果であった。
今回このボロンドープのバラツキを小さくするプロセスを開発したので報告する。
しかし、ボロンドープpMOSFETにおいてウェハエッジ付近ではシート抵抗バラツキが大きくなる結果であった。
今回このボロンドープのバラツキを小さくするプロセスを開発したので報告する。