講演情報
[25p-61C-10]Beyond 2nmロジックノードにおける単元系金属配線の残留応力分布 -ニューラルネットワークポテンシャルを利用した分子動力学計算-
〇橋本 修一郎1、渡邉 孝信1,2 (1.早大SEES、2.早大理工)
キーワード：
多層配線,分子動力学シミュレーション,機械学習ポテンシャル
Beyond 2nmロジックノードの配線工程（BEOL）では、従来のCuからRu等の金属配線への材料的な変化が進むと考えられている。さらに、埋め込み配線やナノシリコン貫通ビアが導入されることで構造的な変化も進んでいる。これらを踏まえ、配線信頼性を左右するストレスマイグレーションに結びつく金属配線の機械的性質が引き続き重要となる。本研究は、汎用性および計算速度に優れるニューラルネットワークポテンシャル（NNP）を用いて分子動力学計算を行い、SiO2層に囲まれた単元系金属配線の残留応力を評価する。