セッション詳細
[10a-N304-1~10]18.4 手法・理論・基盤・その他
2026年9月10日(木) 9:00 〜 11:45
N304 (総合教育棟 N棟)
座長:尾崎 仁亮(村田製作所)、 高原 渉(日立製作所)
[10a-N304-5]熟練者評価軸を組み込んだ視覚言語モデル一対比較による SiC レーザ加工痕の自動評価
〇安川 滉啓1、納谷 剛志2、岩瀨 比宇麻2、川畑 孝志2、髙石 将輝1 (1.アイクリスタル、2.中村留精密工業)
[10a-N304-7]実験ノート自動生成に向けたVLMによる化学実験器具認識
〇(M2)島崎 悠人1、岩淵 雄太郎2、畠山 歓3、五十嵐 康彦1,2 (1.筑波大、2.NIMS、3.東大)
[10a-N304-8]異種ラボ機器のROS2 オーケストレーションによる自律材料探索閉ループの構築
〇寺嶋 健成1、小沢 大雅1,2、吉川 成輝1、田村 亮1、松田 翔一1,2、高野 義彦1,3 (1.NIMS、2.東京科学大、3.筑波大)
[10a-N304-9]LLMを使った材料開発(VII):PoLyInfo 分子構造Taxonomy + Agent AIによる自律的高分子エンティティリンキング
〇石井 真史1、坂本 浩一1 (1.NIMS)
