セッション詳細

[11p-A24-1~6]3.6 レーザープロセシング

2026年9月11日(金) 14:00 〜 15:30
A24 (情報研究棟)

[11p-A24-1]レーザー誘起プラズマを活用した空気中での金属表面窒化プロセス

〇大津 直史1、橘 円香1、橋場 瑛史1、沼倉 知真1、平野 満大1 (1.北見工大工)

[11p-A24-2]ArFエキシマレーザーを用いた超親水性シリコーン薄膜の形成

〇(D)渋田 好美1、大越 昌幸1 (1.防衛大)

[11p-A24-3]パルスレーザーアブレーション法における堆積特性の
パイプ径依存性に関する流体シミュレーション

〇花田 裕月1、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大)

[11p-A24-4]球状ナノ粒子を堆積させたSiの光電気伝導特性

〇(M1)坂井 拓海1、國生 泰成1、青木 珠緒1、梅津 郁朗1 (1.甲南大)

[11p-A24-5]フェムト秒レーザーダブルパルス列照射による4H-SiCの内部改質

〇(M2)山本 勇生1、下間 靖彦1 (1.京大工)

[11p-A24-6]高温超伝導REBCOテープの高精度マルチフィラメント化に向けた超短パルスレーザースクライブの条件探索

湯本 正樹1、〇吉富 大1、衣笠 晋一1、山室 悠香1、高田 英行1、原 英和2、片山 靖久2、廣瀬 清慈2、奈良崎 愛子1 (1.産総研、2.古河電工)