2026年第73回応用物理学会春季学術講演会
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11:00 〜 11:15
奨励賞エントリー
[15a-M_135-6]
多能性®中間膜を用いたエピタキシャルAlN膜の形成とBAW特性評価
〇(B)権守 秀昭
1
、鈴木 雅視
1
、垣尾 省司
1
、關 雅志
2
、木島 健
2
(1.山梨大、2.ガイアニクス)
キーワード:
AlN薄膜、エピタキシャル成長
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