講演情報
[15a-S4_203-9]ミニマルファブを用いたウェハ加工の評価
〇藤田 龍哉1、居村 史人1、佐藤 和重2、原 史朗1,3 (1.株式会社Hundred Semiconductors、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)
キーワード：
ミニマルファブ、ウェハ、ウェハ加工
我々は、局所クリーン化技術を導入することで、クリーンルームが不要となる半導体システム、ミニマルファブを開発してきた。pMOSデバイスであれば数日で作製することが可能な為、デバイスの動作確認をすること自体をウェハ加工の評価と見なすことができる。本報告ではウェハ加工の評価をおこなう為にウェハ加工から始め、pMOSを作製した後、電気的特性の測定を行い、電気的特性で評価することが可能であるかを評価する。