[15p-W8E_101-1~13] 13.3 絶縁膜技術

14:45 〜 15:00

[15p-W8E_101-5] Siウェット酸化の反応機構：SiO₂膜の固溶H₂Oの役割

今泉 学士¹、岡部 優希¹、津田 泰孝²、吉越 章隆²、高桑 雄二³、〇小川 修一¹ (1.日大生産工、2.原子力機構、3.東北大)

キーワード：

Si酸化膜形成、ウェット酸化、リアルタイムXPS

本研究ではn-Si(001)表面のウェット酸化過程をXPSでリアルタイム観察し、酸化膜厚、Si酸化状態、Si-OH結合存在量、圧縮歪み（XPSにおけるSi^αピーク強度）と引張り歪み（Si^βピーク強度）の水蒸気圧力依存から酸化反応機構を検討する。