[15p-W8E_101-1~13] 13.3 絶縁膜技術

15:00 〜 15:15

[15p-W8E_101-6] 硫酸を用いたSiO₂/Si 構造の作製の検討

〇鬼塚 翔平¹、原田 星輝¹、上野 智雄¹、岩崎 好孝¹ (1.農工大院工)

キーワード：

化学溶液酸化法