2026年第73回応用物理学会春季学術講演会
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14:15 〜 14:30
奨励賞エントリー
[15p-W8E_307-4]
溶液成長SiC昇華原料を用いた近接昇華法によるp型SiC層形成の検討
〇(B)北野 平治
1
、杉本 脩人
1
、園田 勉
2
、沓掛 健太朗
1,2
、原田 俊太
1,2
、米澤 喜幸
2
、加藤 正史
3
、宇治原 徹
1,2
(1.名大院工、2.名大未来研、3.名工大)
キーワード:
4H-SiC、p型SiC、近接昇華法
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