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[15p-W8E_307-4]溶液成長SiC昇華原料を用いた近接昇華法によるp型SiC層形成の検討

〇(B)北野 平治1、杉本 脩人1、園田 勉2、沓掛 健太朗1,2、原田 俊太1,2、米澤 喜幸2、加藤 正史3、宇治原 徹1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.名工大)

キーワード:

4H-SiC、p型SiC、近接昇華法