講演情報
[15p-WL2_401-11]熱フィラメントCVD法によるダイヤモンドホモエピタキシャル成長時の金属取り込み
〇市川 公善1、小林 和樹1、松本 翼1、林 寛1、猪熊 孝夫1、山崎 聡1、徳田 規夫1 (1.金沢大)
キーワード：
ダイヤモンド、熱フィラメントCVD、ホモエピタキシャル成長
熱フィラメントCVD法によるダイヤモンドホモエピタキシャル成長におけるTa不純物の取り込み挙動を調査した 。多結晶特有の粒界の影響を排除し、SIMS評価を行った結果、メタン濃度の減少に伴い膜中Ta濃度が増加すること、および(111)面より(100)面で取り込み量が多いことが判明した 。当日はCVDの基本原理に基づき、フラックスの観点からこれらの依存性を考察する 。