[16a-PA4-1~2] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[16a-PA4-2] 紫外線照射後待機による非熱処理アモルファスIGZO TFTの特性改善

〇(M1)中村 光我¹、石井 和歩¹、石原 洸¹、相川 慎也¹ (1.工学院大学)

キーワード：

IGZO、TFT、UV