セッション詳細
[16a-PA4-1~2]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
2026年3月16日(月) 9:30 〜 11:00
PA4 (アリーナ (1F))
[16a-PA4-1]ALD-Al2O3を用いたガラス基板上の4端子縦型 poly-Si 薄膜トランジスタ
〇岩舘 伯1、中澤 拓矢1、栗原 義人1、原 明人1 (1.東北学院大工)
[16a-PA4-2]紫外線照射後待機による非熱処理アモルファスIGZO TFTの特性改善
〇(M1)中村 光我1、石井 和歩1、石原 洸1、相川 慎也1 (1.工学院大学)