講演情報
[16a-S2_203-8]段差パターン上へのレジスト平坦塗布サポート技術の開発
〇小島 遥希1、川島 裕嗣1、松本 壮太1、奥村 祐介1、松村 明1、有田 幸司1 (1.キオクシア株式会社)
キーワード：
3次元フラッシュメモリ、リソグラフィ、陽電子消滅法分析
深い段差パターンや凹凸が形成されている基板上にレジストパターニングを行う際、既存パターンにレジストが吸収されることで基板表面のレジスト膜厚の変動によるフォーカスずれが発生する。そのため、レジスト塗布前にはパターンを埋め込むか閉塞する等の前処理が必要となる。本発表では、絶縁膜系材料によってパターントップ部に蓋をするレジスト平坦塗布サポート技術について報告する。