講演情報
[16a-W8E_307-7]商用オフ角付きSiC基板の残留歪み定量イメージング(2)
〇辻 直人1、渡邉 凌矢1、岩崎 雅弘1、福澤 理行1 (1.京都工芸繊維大)
キーワード：
SiC、残留歪み、光弾性法
商用SiC基板の大口径化に伴い、光弾性法を用いた残留歪みの定量評価が重要となっているが、オフ角付き基板では自然複屈折が障害であった。我々は、コリメート光学系と基板傾斜機構によって自然複屈折を抑制可能なイメージング型偏光計(xIP)を独自開発してきた。今回、xIPを用いて、様々な商用SiC基板について残留歪み分布の定量イメージングを試み、分布のパターンや主歪み方向について詳しく調べた。