講演情報
[17a-M_103-6]高純度オゾンを用いた低ダメージプラズマプロセスの開発
〇元田 総一郎1、西口 哲也1、岡留 裕磨1、原山 絢多1、山田 春樹1 (1.明電ナノプロセス)
キーワード：
プラズマ、オゾン、低ダメージ
酸素プラズマプロセスは有機汚染洗浄、レジスト除去、界面酸化処理など半導体製造工程における重要な基盤技術の一つである。特に近年は先端半導体の微細化や3次元化、さらに金属配線、層間絶縁膜（low-K）に検討されている新材料は熱やプラズマに対して弱いこともあり、これまで以上の低ダメージが求められている。我々はプラズマのソースガスに高純度オゾン（80 vol%~）を使用し、省力化と低ダメージ化を検証した。