セッション詳細
[17a-M_103-1~13]8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2026年3月17日(火) 9:00 〜 12:30
M_103 (本館)
座長:唐橋 一浩(名大)、 岩瀬 拓(日立製作所)
[17a-M_103-1]大気圧マイクロプラズマジェットを用いたポリマー表面改質の周波数依存性
谷口 悠輝1、國岡 渓太1、〇呉 準席1、白藤 立1、八田 章光2 (1.大阪公大工、2.高知工科大)
[17a-M_103-7]デジタルツインを用いたTSV用SF6代替低GWPエッチングガスの開発
〇市川 菜摘1、石川 卓司1、石伏 未来1、岡本 鈴佳1、野尻 康弘1、林 久貴1 (1.ダイキン工業株式会社)
[17a-M_103-8]NF3系プラズマによるSiOCN高選択エッチング機構に関する検討
〇郷矢 崇浩1、平田 瑛子1、深沢 正永1、水林 亘1、林 喜宏1 (1.産総研 先端半導体研究センター)
[17a-M_103-11]RAXIO®におけるRadical/Ion switchを用いたトレンチ形状制御プロセス
〇瀧本 壽来生1、中谷 侑亮1、園田 靖1、佐藤 清彦1、岩瀬 拓2 (1.日立ハイテク、2.日立研開)
[17a-M_103-12]2 ステップ TiN 加工法を実現するための堆積膜形成条件
〇益子 侑大1、岩瀬 拓1、佐竹 真1、園田 靖2、田中 基裕2、小藤 直行2、前田 賢治2 (1.日立研開、2.日立ハイテク)
