講演情報
[17a-PB1-13]有機 Mo 錯体を用いた静電噴霧法による酸化物薄膜の作製と評価
〇伊藤 誠悟1、西口 昂志1、野口 遼太郎1、大谷 直毅1 (1.同志社大理工)
キーワード：
酸化モリブデン、静電噴霧法、溶液プロセス
有機デバイスの正孔輸送層として期待される酸化モリブデン薄膜を，大気圧下・低温プロセスである静電噴霧法(ESD)を用いて作製した．有機Mo錯体溶液を原料とし，溶媒組成や噴霧条件を検討した結果，30℃の基板上で(020)配向したα-MoO3結晶膜を得ることに成功した．本発表では，結晶成長メカニズムの考察に加え，高沸点溶媒添加による表面平坦性の改善効果についても報告する．