[17a-S2_201-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

11:45 〜 12:00

[17a-S2_201-10] CF₄/H₂プラズマ照射がSiおよびSi_0.7Ge_0.3の表面反応に及ぼす影響

〇(M1)佐分利 伊吹¹、尾崎 孝太朗¹、今井 友貴¹、堤 隆嘉²、石川 健治²、Yamamoto Yuji^3,1、Wen Wei-Chen³、牧原 克典^1,3 (1.名大院工、2.名大低温プラズマ、3.IHP - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik)

キーワード：

CF4/H2プラズマ