[17a-S2_201-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

12:30 〜 12:45

[17a-S2_201-13] 熱処理温度が極薄Si/Ni/SOI構造のシリサイド化反応に及ぼす影響

〇鷲岡 拓宙¹、今井 友貴¹、足立 将剛¹、佐分利 伊吹¹、田岡 紀之²、尾崎 孝太朗¹、牧原 克典^1,3 (1.名大院工、2.愛工大工、3.IHP)

キーワード：

シリサイド、SOI