講演情報
[17a-S2_203-5]SADPとワイドリソパターンを用いたGAAFET対応変長ダミーゲート形成
〇利根川 啓希1、上田 哲也1、七里 元晴1、山本 博規1、林 喜宏1 (1.産総研SFRC)
キーワード：
GAAFET、SADP
GAAFETのダミーゲート形成に既存のフォトリソパターンとSADPプロセスを用いることでゲート長の二つの寸法制御が可能となる。今回、フォトリソパターンとSADPパターンのダミーゲートを両立した
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