講演情報

10:00 〜 10:15

[17a-S2_203-5]SADPとワイドリソパターンを用いたGAAFET対応変長ダミーゲート形成

〇利根川啓希¹、上田哲也¹、七里元晴¹、山本博規¹、林喜宏¹ (1.産総研SFRC)

GAAFET、SADP

GAAFETのダミーゲート形成に既存のフォトリソパターンとSADPプロセスを用いることでゲート長の二つの寸法制御が可能となる。今回、フォトリソパターンとSADPパターンのダミーゲートを両立した