講演情報
[17a-S2_203-7]ナノインプリントリソグラフィ（NIL）によるデュアルダマシン（DD）配線の評価
〇濱本 亮輔1、鈴木 健太1、上田 哲也1、林 喜宏1、水林 亘1、日下 敦之2、石田 真幸2、十河 輝大2、舩吉 智美2、香川 正行2、小楠 誠2、長谷川 敬恭2、山本 磨人2 (1.産総研 SFRC、2.キヤノン)
キーワード：
ナノインプリントリソグラフィ、半導体
デュアルダマシン（DD）配線工程へのナノインプリントリソグラフィ（NIL）適用の検証を進めている。NILで一括形成した配線およびビアのレジストパターンをエッチングにより下層膜へ転写し、その後のCu充填まで評価した結果、良好なパターン転写性が得られ、ボイドは観察されなかった。これらはDD配線工程へのNIL導入の有望性を示すものである。当日は評価プロセスの詳細、現状の進捗、今後の課題について報告する。