[17a-S4_202-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

9:00 〜 9:15

[17a-S4_202-1] 光ファイバマトリックス投影露光の高速露光制御の検討

〇堀内 敏行¹、鈴木 佑汰¹、岩崎 順哉¹、柳田 明¹、小林 宏史¹ (1.東京電機大工)

キーワード：

光ファイバ、マトリックス露光、高速露光

二次元コードマーク等50-500μm線幅の大パターンを簡便安価に形成するため、一端を正方形化した光ファイバマトリックスにLEDでファイバ毎に給光し、射出端の明暗パターンを被露光物上に投影転写する技術を開発中である。125μmファイバで1/10縮小まで高精細化できており、本報では数10msで高速露光する技術を検討した。マイコン制御でトランジスタを介してLEDを大電流で点灯すれば可能なことが分かった。