2026年第73回応用物理学会春季学術講演会
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一般セッション(口頭講演)7 ビーム応用：7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[17a-S4_202-1~10]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2026年3月17日(火) 9:00 〜 11:45
S4_202 (南4号館)
座長：山本 治朗(日立)、 谷口 淳(東理大)
9:00 〜 9:15

[17a-S4_202-1]光ファイバマトリックス投影露光の高速露光制御の検討

〇堀内 敏行1、鈴木 佑汰1、岩崎 順哉1、柳田 明1、小林 宏史1 (1.東京電機大工)
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9:15 〜 9:30奨励賞エントリー

[17a-S4_202-2]酢酸エステル/IPA混合液を用いたPMMA電子線レジストの現像特性

〇堀 菜津子1、岸村 由紀子1、浅田 裕法1 (1.山口大工)
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9:30 〜 9:45

[17a-S4_202-3]La/B4C反射多層膜の成膜時Ar+加速電圧依存性

〇江島 丈雄1、中野 隆紀1、中村 亮介1、羽多野 忠1 (1.東北大)
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9:45 〜 10:00奨励賞エントリー

[17a-S4_202-4]有機ナノ薄膜のせん断現象に関する定量的評価の検討(Ⅱ)-パーシステントホモロジーを用いた空隙評価を中心に-

〇(B)石崎 史眞1、多田 和広1 (1.富山高専)
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10:00 〜 10:15奨励賞エントリー

[17a-S4_202-5]電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを
用いたナノインプリントプロセス

〇永松 周1、前川 永遠1、王 雅慧1、向 立昕1、李 周姸2、大塚 健祐2、宮尾 宙2、雨宮 智宏1 (1.東京科学大工、2.三井化学)
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10:30 〜 10:45

[17a-S4_202-6]電子ビーム露光によるスランテッド構造の作製

〇丹羽 謙介1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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10:45 〜 11:00

[17a-S4_202-7]特殊ナノ構造偏光子を用いた段階調光型ブラインドの基礎検討

〇穂苅 遼平1、桑野 玄気1、辻岡 一眞1、栗原 一真1 (1.産総研)
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11:00 〜 11:15

[17a-S4_202-8]遮光膜付きレプリカモールドを用いた残膜レスナノパターニング

〇森山 祐大郎1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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11:15 〜 11:30

[17a-S4_202-9]マイクロプリント・ナノインプリント法で作製した位置合わせ用マイクロ棒状配列体とナノ円盤配列体の蛍光レジストの形状評価

〇東島 大介1、小野 奈瑠美1、大沼 晶子1、中川 勝1 (1.東北大多元研)
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11:30 〜 11:45

[17a-S4_202-10]モスアイ構造とマイクロホールのハイブリッド化による付着性撥水表面

〇澄田 悠羽1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
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