[17a-S4_202-1~10] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術 | 2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)7 ビーム応用：7.3 微細パターン・微細構造形成技術

[17a-S4_202-1~10]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2026年3月17日(火) 9:00 〜 11:45

S4_202 (南4号館)

9:00 〜 9:15

[17a-S4_202-1]光ファイバマトリックス投影露光の高速露光制御の検討

〇堀内敏行¹、鈴木佑汰¹、岩崎順哉¹、柳田明¹、小林宏史¹ (1.東京電機大工)

9:15 〜 9:30奨励賞エントリー

[17a-S4_202-2]酢酸エステル/IPA混合液を用いたPMMA電子線レジストの現像特性

〇堀菜津子¹、岸村由紀子¹、浅田裕法¹ (1.山口大工)

9:30 〜 9:45

[17a-S4_202-3]La/B₄C反射多層膜の成膜時Ar⁺加速電圧依存性

〇江島丈雄¹、中野隆紀¹、中村亮介¹、羽多野忠¹ (1.東北大)

9:45 〜 10:00奨励賞エントリー

[17a-S4_202-4]有機ナノ薄膜のせん断現象に関する定量的評価の検討(Ⅱ)-パーシステントホモロジーを用いた空隙評価を中心に-

〇(B)石崎史眞¹、多田和広¹ (1.富山高専)

10:00 〜 10:15奨励賞エントリー

[17a-S4_202-5]電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを
用いたナノインプリントプロセス

〇永松周¹、前川永遠¹、王雅慧¹、向立昕¹、李周姸²、大塚健祐²、宮尾宙²、雨宮智宏¹ (1.東京科学大工、2.三井化学)

10:30 〜 10:45

[17a-S4_202-6]電子ビーム露光によるスランテッド構造の作製

〇丹羽謙介¹、谷口淳¹ (1.東理大先進工)

10:45 〜 11:00

[17a-S4_202-7]特殊ナノ構造偏光子を用いた段階調光型ブラインドの基礎検討

〇穂苅遼平¹、桑野玄気¹、辻岡一眞¹、栗原一真¹ (1.産総研)

11:00 〜 11:15

[17a-S4_202-8]遮光膜付きレプリカモールドを用いた残膜レスナノパターニング

〇森山祐大郎¹、谷口淳¹ (1.東理大先進工)

11:15 〜 11:30

[17a-S4_202-9]マイクロプリント・ナノインプリント法で作製した位置合わせ用マイクロ棒状配列体とナノ円盤配列体の蛍光レジストの形状評価

〇東島大介¹、小野奈瑠美¹、大沼晶子¹、中川勝¹ (1.東北大多元研)

11:30 〜 11:45

[17a-S4_202-10]モスアイ構造とマイクロホールのハイブリッド化による付着性撥水表面

〇澄田悠羽¹、谷口淳¹ (1.東理大先進工)

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