講演情報
[17a-S4_202-5]電子線グレースケール露光により作製した三次元レジストマスターモールドを
用いたナノインプリントプロセス
〇永松 周1、前川 永遠1、王 雅慧1、向 立昕1、李 周姸2、大塚 健祐2、宮尾 宙2、雨宮 智宏1 (1.東京科学大工、2.三井化学)
キーワード：
ナノインプリントリソグラフィ、グレースケール、ARグラス
近年、ARグラス用導光板等に用いる三次元光学素子への要求が高まっている。従来のナノインプリントモールド作製は複雑なエッチング工程によるコストと時間が課題であった。そこで本研究では電子線グレースケール露光を用い、フォトポリマーから直接マスターモールドを作製した。これにより、ガラス基板上への転写で設計通りのピッチと傾斜角を実現しており、プロセスの大幅な簡略化に寄与すると考えられる。