[17a-S4_203-1~11] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

9:00 〜 9:15

[17a-S4_203-1] X線および電子線PDF解析を用いたSi基板上アモルファスSiO₂薄膜の構造評価手法の検討

〇伊藤 孝憲¹、荻生 秀作¹、浅田 敏広¹、白又 勇士^2,3、尾原 幸治³ (1.（株）日産アーク、2.（株）リガク、3.島根大)

キーワード：

アモルファス薄膜、PDF解析、斜入射X線回折

現在，機能性薄膜は半導体デバイスや光学材料など幅広い分野で利用されているが，アモルファス薄膜の構造解析は基板由来散乱などにより容易ではない．本研究では，SiO₂ガラスプレートを用いてX線全散乱PDF解析におけるin-planeおよびout-of-plane測定法を検討し，得られた手法をSi基板上アモルファスSiO₂薄膜に適用した。さらに，電子線回折を用いたPDF解析により膜表面側および基板界面側の局所構造評価を行った．