セッション詳細
[17a-S4_203-1~11]13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション
2026年3月17日(火) 9:00 〜 12:00
S4_203 (南4号館)
座長:森 伸也(阪大)、 蓮沼 隆(筑波大)
[17a-S4_203-1]X線および電子線PDF解析を用いたSi基板上アモルファスSiO2薄膜の構造評価手法の検討
〇伊藤 孝憲1、荻生 秀作1、浅田 敏広1、白又 勇士2,3、尾原 幸治3 (1.(株)日産アーク、2.(株)リガク、3.島根大)
[17a-S4_203-3]Ar/N2 gas flow ratio dependence on the ferroelectric HfNx formation utilizing ECR-plasma sputtering
〇KANGBAI LI1, Shun-ichiro Ohmi1 (1.Science Tokyo)
[17a-S4_203-5]MEMSデバイス作製のための
電解めっき膜制御に向けたパターン密度の検討
〇坂梨 航太1、栗岡 智行1、町田 克之1、Chen Chun-Yi1、Chang Tso-Fu Mark1、三宅 美博1、伊藤 浩之1、曽根 正人1 (1.東京科学大学)
