講演情報
[17p-M_103-12]TiN膜高速形成用真空アーク蒸着装置における陰極有効利用に向けた陰極点駆動制御
〇越智 将伍1、大根田 みらの1、佐野 絃貴1、佐野 春1、滝川 浩史1、服部 貴大2、儀間 弘樹2 (1.豊橋技術科学大、2.オーエスジー（株）)
キーワード：
TiN、真空アーク蒸着、ステアド法
TiN膜高速成膜用HR-FADにおいて，陰極点駆動（ステアリング）の周回半径および周回速度制御を検討した。外周コイル電磁石電流を変化させ，陰極点運動を可視化した結果，磁界分布制御により周回半径の縮小と周回速度の増加が可能であることを明らかにした。これにより陰極の有効利用に向けた時間的制御の可能性を示した。