セッション詳細
[17p-M_103-1~12]8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2026年3月17日(火) 14:00 〜 17:15
M_103 (本館)
[17p-M_103-1]CF3CH2CF3分子の電子物性と解離
〇林 俊雄1、石川 健治1、関根 誠1、堀 勝1 (1.名古屋大学)
[17p-M_103-2]CF3CHFCHF2分子の電子物性と解離
〇林 俊雄1、石川 健治1、関根 誠1、堀 勝1 (1.名古屋大学)
[17p-M_103-3]機械学習ポテンシャルを用いたエッチングシミュレーション
〇池田 京1 (1.三菱ケミカル株式会社)
[17p-M_103-4]分子動力学シミュレーションに基づく指向性を持ったH2の照射による金属表面変化の材料間比較
〇山本 康介1、樋口 恒1、河野 有美子1、山田 一希1、李 虎2 (1.TEL Tech. Sol. Ltd.、2.TEL America, Inc.)
[17p-M_103-5]水素化アモルファスカーボン膜の真性応力生成メカニズムのデータ駆動型解析
〇安藤 悠介1、Li Hu2、Zhao Jianping2、松隈 正明3、Ventzek Peter2、石川 健治4 (1.名大工、2.Tokyo Electron America Inc.、3.東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株)、4.名大低温プラズマ)
[17p-M_103-6]プラズマ・材料情報科学(Plasma and Material Information Science: PaMIS)に基づく機械学習精度向上のための特徴量設計手法の検討
〇鎌滝 晋礼1、Fitriani W. Sukma2、佐藤 優志1、黒崎 陽晴1、政本 元1、山下 大輔1、奥村 賢直1、板垣 奈穂1、古閑 一憲1、白谷 正治1 (1.九大シス情、2.九大IMI)
[17p-M_103-7]多様性指標を用いたプラズマプロセスの定量評価
〇白谷 正治1、スクマ フィットリアーニ1、鎌滝 晋礼1 (1.九大シス情)
[17p-M_103-8]WO3/SiCのマイクロ波励起水素プラズマ照射によるWSi/SiO2層の形成
〇今井 賢人1、小倉 大知1、室屋 颯太1、佐藤 哲也1、本山 慎一2 (1.山梨大工、2.ミヤ通信工業)
[17p-M_103-9]GIPP-CVD法を用いて作製したSi-DLC膜のTMS流入量の違いによるSi含有量変化
〇牧田 成悟1、針谷 達1、永井 健登1、上坂 裕之1 (1.岐阜大学)
[17p-M_103-10]大電力パルススパッタリングプラズマによるSi基板上のグラフェン成膜に及ぼす通電加熱バイアスの影響
〇岩田 晃拓1、山田 昌太郎1、篠原 正典1、松本 貴士2 (1.福岡大、2.東京エレクトロンテクノロジーソリューションズ(株))
[17p-M_103-11]超高周波励起大気圧プラズマにより作製したリチウムイオン電池用厚膜Si負極の構造評価
〇(M1)広本 恒輝1、Farrel Dzaudan Naufal1、榎本 光希1、大参 宏昌1、垣内 弘章1 (1.阪大院工)
[17p-M_103-12]TiN膜高速形成用真空アーク蒸着装置における陰極有効利用に向けた陰極点駆動制御
〇越智 将伍1、大根田 みらの1、佐野 絃貴1、佐野 春1、滝川 浩史1、服部 貴大2、儀間 弘樹2 (1.豊橋技術科学大、2.オーエスジー(株))
