講演情報
[17p-PB3-11]DLC 成膜用Ar/CH4 プラズマにおける
ガス利用効率に及ぼす滞在時間の影響
〇(M1)植松 優1、上坂 裕之2、小田 昭紀1 (1.千葉工大工、2.岐阜大工)
キーワード：
低圧プラズマ、プラズマCVD、シミュレーション
プラズマCVD法は, 低温で均一に成膜できる利点から様々な成膜プロセスに利用されているが, 原料ガスのほとんどが成膜に利用されず, 未反応のまま排気されることが課題となっている. 本研究ではDLC成膜における, 原料ガスの利用効率向上を目的とし, 低圧高周波Ar/CH4プラズマの空間1次元流体モデルを用いて数値解析を行った. 本報告では, プラズマ特性に及ぼすガスの滞在時間の影響について報告する.