講演情報
[17p-PB3-12]プラズマ発光分光分析によるマルチパルススパッタリングにおける生成スパッタ粒子のイオン化率特性の解析
〇横山 英佐1,2、中川 悠幹2、小林 宏輝2、實方 真臣2、戸名 正英3、山本 宏晃3、塚本 恵三3、冨宅 喜代一4、大下 慶次郎5、美齊津 文典6 (1.サレジオ高専、2.東京工芸大工、3.（株）アヤボ、4.神戸大、5.北海道教育大、6.東北大院理)
キーワード：
大電力パルスマグネトロンスパッタリング、発光分光分析、イオン化率
高出力パルススパッタリング（HPPMS）は、成膜速度と膜質の向上を目的にマルチパルス化の研究が行われ、数本のパルスからなるマルチパルスHiPIMS（m-HiPIMS）、数十本のパルスからなる深振動マグネトロンスパッタリング（DOMS）が検討されている。本研究では、単一から数本のマルチパルスを設計し、生成したプラズマに対して発光分光分析（OES）による時間発展計測を行い、マルチパルス化が生成粒子のイオン化率に与える影響について検討を行った。