講演情報
[17p-PB3-13]高出力パルスマグネトロンスパッタリングで生成する中性Ti粒子のレーザー誘起蛍光を用いた成膜領域における時間発展計測
〇中川 悠幹1、沢 哲斗1、小林 宏輝1、横山 英佐1,2、實方 真臣1、戸名 正英3、山本 宏晃3、塚本 恵三3、冨宅 喜代一4、大下 慶次郎5、美齊津 文典6 (1.東京工芸大工、2.サレジオ高専、3.（株）アヤボ、4.神戸大、5.北海道教育大、6.東北大院理)
キーワード：
レーザー誘起蛍光法、大電力インパルスマグネトロンスパッタリング
近年、HPPMSにおいて、デューティー比を極力小さくして大電力を供給できるHiPIMSでは、小さなデューティー比ゆえに大きな成膜速度が望めないことから、現在、マルチパルス化し成膜速度の向上を可能とする新たな方式が考案されている。本研究では、種々のマルチパルス化HPPMS(m-HiPIMS, i-DOMS)を行い、成膜領域における生成スパッタ中性粒子のレーザー誘起蛍光法に対する時間発展計測を行った。