[18a-M_178-1~11] 17.3 層状物質

11:45 〜 12:00

[18a-M_178-11] MoO₃分子の水素還元蒸着法によるSiO₂/Si(111)表面でのMo薄膜の合成

〇亀井 陸¹、西尾 亮祐¹、泉 宏和²、本多 信一¹ (1.兵庫県立大工、2.兵庫県立工技センター)

キーワード：

水素還元、分子線蒸着法

本報告では、水素還元蒸着法によるMoO₃からのMo薄膜合成について検討した結果について述べる。SiO₂/Si(111)表面には、Effusion cellからのMoO₃と水素源(HABS 40)からのH₂を同時に照射する方法で成膜した。作製した試料に対し、XPSとGI-XRDを用いて解析を行った。得られた結果から、膜は、Mo⁰状態が56%、Mo²⁺状態が27%となっていることが分かったが、膜は非晶質であった。これらの成膜条件が適切であれば、SiO₂/Si(111)表面にMo膜が得られると思われる。