セッション詳細
[18a-S4_201-1~6]3.6 レーザープロセシング
2026年3月18日(水) 10:30 〜 12:00
S4_201 (南4号館)
[18a-S4_201-1]GaN中へのレーザ加工痕形成がレーザスライスに与える影響
〇田中 敦之1、油井 俊樹2、徳田 祥典3、小山 貴之3、本田 善央1、大原 淳士3、長里 喜隆3、恩田 正一1、須田 淳1、天野 浩1 (1.名大IMaSS、2.浜松ホトニクス、3.ミライズテクノロジーズ)
[18a-S4_201-2]サブナノ秒全固体193 nm光源を用いたアブレーション加工効率評価
〇本杉 宇晃1、小池 陸生1、玉手 光次1、近田 修1、三浦 泰祐1 (1.ギガフォトン株式会社)
[18a-S4_201-3]透明フッ素樹脂CYTOPを用いた極薄チャネル構造を有する3次元マイクロ流体チップの作製
〇(M1)松本 颯太1,2、宮地 悟代2、杉岡 幸次1 (1.理研 光量子、2.東京農工大)
[18a-S4_201-4]ArFエキシマレーザーを用いた撥水性を有するシリコーンナノ膜の形成（２）
〇(D)渋田 好美1、大越 昌幸1 (1.防衛大)
[18a-S4_201-5]Femtosecond laser near-field reduction of gold ions for formation of nanoplate with through-nanoholes
〇Shi Bai1, Kazunari Ozasa1, Koji Sugioka1 (1.RAP, RIKEN)
[18a-S4_201-6]衛星姿勢制御に向けた超短パルスレーザーによる推力発生
〇小川 貴代1、春日 博1、山根 秀公1、月花 智弘1、津野 克彦1、永田 豊1、黒瀬 範子1、篠崎 琢也1、斎藤 徳人1、和田 智之1 (1.理研)