講演情報
[18a-S4_201-4]ArFエキシマレーザーを用いた撥水性を有するシリコーンナノ膜の形成（２）
〇(D)渋田 好美1、大越 昌幸1 (1.防衛大)
キーワード：
ArFエキシマレーザー、シリコーンナノ膜、撥水性
前回は、合成石英ガラス基板とシリコーンゴムを1 mm間隔で設置し、ArFレーザーを基板側から低フルエンスで入射しゴム表面に大気中で照射した。その結果、シリコーンの主鎖構造の光開裂により生成した低分子量シリコーンが基板上でナノ膜として形成することを示した。今回はArFレーザーをシリコーン側から入射しゴム裏面での光開裂により低分子量シリコーンを生成し、レーザー照射方向に設置した基板上にナノ膜が形成することを示す。