講演情報
[18p-S2_203-10]NNP 分子力学による Nb ALD の解析・設計
〇佐藤 登1、中島 章雅1、山口 潤1、玉置 直樹1、筑根 敦弘1、霜垣 幸浩1 (1.東大院工)
キーワード：
プラズマ原子層堆積法、ニオブ
ニオブ（Nb）は半導体配線や量子コンピュータ向け超伝導材料として期待されるが、還元が難しく低温CVD/ALD例は少ない。本研究ではNbCl₅/H₂プラズマPEALDにおける高抵抗率の要因解明を目的に、MatlantisによるNNP分子動力学を用いて反応過程を解析した。Nb(110)面上でのNbCl₅飽和吸着挙動を明らかにし、得られた知見に基づくプロセス改良について報告する。