[18p-WL1_201-1~7] 技術イノベーションを加速する薄膜新材料とデバイス・プロセスの新展開

13:00 〜 13:30

[18p-WL1_201-1] 微細配線応用をめざしたCoSnカゴメ金属単結晶薄膜

〇中谷 友也¹、Suwannaharn Nattamon¹、Dahule Rohit¹、佐々木 泰祐¹、佐原 亮二¹ (1.NIMS)

キーワード：

配線、半導体、金属間化合物

Cu配線の微細化で抵抗率が増大する問題に対し、結晶方位依存性を持つ異方性導電材料が注目されている。CoSnカゴメ金属は一次元的な電気伝導特性をを示し、配線材料候補として有望である。本研究ではMgO基板上にCoSn単結晶薄膜を成長し、その異方性抵抗率と成長特性を評価した。