セッション詳細

表面改質Ⅱ

2026年9月28日(月) 13:10 〜 14:30
第3会場
座長:井尻 政孝

[306]マシンハンマピーニングにおける残留応力分布に及ぼすピン軌跡の影響

*真鍋 侑也1、谷川 秀次2、太田 高裕3 (1. 広島工大・院、2. 三菱重工業、3. 広島工大)
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[307]摩擦攪拌プロセスによるアルミニウムの局所的合金化の検討

*菊池 司1、寺野 元規2、竹村 明洋3、篠原 隆4 (1. 岡山理科大、2. 岡山理科大、3. 岡山理科大、4. 岡山理科大)
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[308]CH4濃度変調プラズマを用いて異なる変調比で合成したナノ結晶ダイヤモンド膜の機械的特性

*田中 一平1、ナズルル アスワド2、大西 亮多3、川口 夏樹4、原田 泰典5 (1. 兵庫県大、2. 兵庫県大・学、3. 兵庫県大・院、4. 兵庫県大、5. 兵庫県大)
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[309]ホットチューブCVD法を用いたダイヤモンド合成によるメタン濃度の影響

*川井 晧貴1、田中 一平2、原田 泰典3 (1. 兵庫県立大・院、2. 兵庫県立大、3. 兵庫県立大)
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