EUV光源

14:30 〜 15:00

[C03-21p-V-01] 【招待講演】レーザー生成プラズマEUV光源を用いたマスクパターン検査装置

*林田 慧太朗¹、上田 明¹、権平 皓¹、西澤 正泰¹、宮井 博基¹ (1. レーザーテック（株）)