レーザーアブレーション

16:00 〜 16:15

[D11-23p-I-03] ベクトル偏光と位相制御を用いたSiCの超短パルスレーザーアブレーション加工について

*松本 直也¹、伊藤 晴康¹、沖原 伸一朗²、石井 勝弘² (1. 浜松ホトニクス株式会社、2. 光産業創成大学院大学)