講演情報

[C-3_C-4-50]小片接合技術を用いたInP系多層量子井戸/Si導波路集積p-i-n型マッハツェンダ変調器

〇糟谷 直孝1,2,3、田中 肇1,2,3、小松 憲人1,2,3、三澤 太一2、井上 尚子1,2,3、菊地 健彦1,2,3、御手洗 拓矢1,2,3、木村 峻1,2、藤原 直樹1,2,3、西山 伸彦1,3、八木 英樹1,2,3 (1. 技術研究組合光電子融合技術研究所、2. 住友電気工業株式会社 伝送デバイス研究所、3. 東京科学大学 工学院電気電子系)

キーワード:

マッハツェンダ変調器、InP/Si、Siフォトニクス、小片接合技術