セッション１

9:15 〜 9:30

[S14_3_01(学生講演)] 酸化グラフェンを用いた室温での高品質グラフェン膜の合成

〇津川 樹¹、谷口 貴章²、畠山 一翔³、川嵜 潤也¹、鯉沼 陸央³、伊田 進太郎³ (1. 熊本大学大学院、2. 国立研究開発法人物質・材料研究機構（NIMS)、3. 熊本大学産業ナノマテリアル研究所（IINa))