最先端電子デバイスプロセス(2)

14:30 〜 14:45

[S19_3_05(学生講演)] 無電解めっきによる微細配線応用に向けたRu膜の形成と評価 (Ⅲ)

〇濱村 尚伸¹、石井 優子¹、清水 智弘¹、伊藤 健¹、新宮原 正三¹ (1. 関西大学)