講演情報

14:45 〜 15:00

[S19_3_06(学生講演)]GaAs基板上に形成した無電解Ni-Pめっき膜のストレス解析

〇西澤弘一郎^1,2、松本歩²、日坂隆行¹、門岩薫¹、中村勇¹、佐久間仁¹、小島善樹¹、市川聡³、福室直樹²、八重真治² (1. 三菱電機株式会社、2. 兵庫県立大学、3. 大阪大学超高圧電子顕微鏡センター)