[C-6] 電子部品・材料

13:45 〜 14:00

[C-6-01] 室温成膜されたZrO₂膜の特性評価

○武山 真弓^1,2 (1. 北見工業大学、2. 東京工業大学WOWアライアンス)

キーワード：

LSI、抵抗変化メモリ、ZrO2膜、低温成膜、絶縁膜